摘要：电子束光刻技术是微电子、光电子、微机械等领域的重要手段，是半导体产业中不可或缺的加工方式之一。电子束光刻设备在高精度掩模制备、原型器件开发、小批量生产以及基础研究中具有不可替代作用，为半导体制造向1nm以下皮米级前进提供一个可行方向。成都作为“中国IC第四城”，在发展电子束光刻技术及设备上具备一定基础与优势，但面临核心技术基础偏弱、产业链不完善、国际合作渠道受阻等挑战。文章提出要做好产业布局规划，提升电子束光刻技术领域企业研发能力，增强成都在电子束加工与制备领域整体创新能力和产业竞争力。