近日，中国工程院院士王玉忠顾问和四川大学教授宋飞在国际顶级期刊《Nature Communications》（《自然•通讯》）上发表《A confined-etching strategy for intrinsic anisotropic surface wetting patterning（简便无掩模限制的表面润湿图案化蚀刻策略）》一文，报告了一种通过控制材料表面的受限分解来实现精确表面图案化的简便快速的无掩模蚀刻方法。此方法借助印刷技术调节表面润湿状态，从而对设置位置进行化学蚀刻并有效地制造复杂的图案，还建立了刻蚀加工窗口，用于信息存储和加密，并在受到水、湿气等外部刺激时读取。由于金属导体以可润湿图案的选择性生长，此方法还可以制造功能材料，如柔性电子产品等。这种无掩模且简单的方法在从各种聚合物材料大规模生产精确功能图案方面显示出巨大的潜力。
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